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  • 品 牌  EVO
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品牌EVO 有效期至长期有效 最后更新2020-07-06 08:51
工作幅面300mm×300mm (可选) 图形最高分辨率300nm 图形线条范围0.3 ~ 1um(#50),1 ~ 5um(#20),5 ~ 20um
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曝光机

 l 气浮导轨

Y轴采用高精度大理石气浮导轨,实现无摩擦和无振动的平滑移动,长时间稳定工作,运动精度高、清洁无污染。

l CCD动态聚焦(Dynamic Focusing)

精密的自动聚焦光路设计结合智能化的图像处理,实现了聚焦光斑在Z轴方向的***定位。***光刻胶涂布厚度和基板不均匀性对图形光刻精度的影响,为三维非球面加工和检测提供有力支持。

独有超长范围动态聚焦能力,0~40mm全程范围内,动态跟随误差<0.3um,跟随速度>2mm/s。
 

l 高精度重定位功能(Repeat Positioning)

利用CCD读取标靶,可对加工板件实现高精度的二维重复定位,支持二次曝光和支持LIGA叠层光刻工艺。

独有倾斜角度物理补偿,***传统重复定位中用软件补偿产生的锯齿形。

借助重定位功能和CAM软件拼板加工功能,可成倍扩展工作幅面。

l 灰度光刻( Grayscale Lithography)

多台阶功能:通过SLM-DMD(Digital Mirror Device)输入具有灰阶结构的图形,调制光斑,一次曝光,可产生多重台阶,光斑尺寸从20um可调至256um,灰度光刻的物理分辨率可达2um。从2台阶到8台阶,台阶深度均可通过灰度调制光斑实现,显著提升了微结构图形制造效率。尤其适合制作MEMS、二元光学等多台阶器件。

从点线扫描到并行直写,借助SLM-DMD,在光刻过程中动态改变光斑至任意形状,并且对光斑内的不同区域进行光强调制,由此带来独有的***率和高灵活性。尤其适用于厚胶变深度刻蚀、复杂图形***率光刻。从灰阶到连续表面原理

光变图形处理软件OVGrphics 

支持*.tiff、bmp文件与arr格式(自定义)转换;支持矢量arr文件格式处理;

支持三维图像的分幅处理、多分辨率图像的光刻文件处理和拼接;

支持二元光学元件设计的迭代付里叶变换和光束整形处理、支持DMD并行高分辨率图形转换模块、支持利用光变图像的存储处理,支持4G信息量图形产生与处理。

 

点阵与矢量化控制软件

支持矢量化、点阵运行模式切换;

文件格式*.DXF,*.GSD-II,*.CIF,*.ARR;具有曝光时间设定与曝光器接口通讯;

支持DMD分区输入的并行光刻控制;支持分幅输入的三维图形的合成、二元光学元件位相结构的光刻。各种矢量化精密图形、点阵精密图形的混合光刻

本公司专业生产光学检测设备 光学测量设备 气浮平台 陶瓷吸附平台 高精密运动平台 光刻机 曝光机,欢迎选购!

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