面议
面议
面议
品牌EVO | 有效期至长期有效 | 最后更新2019-10-22 13:49 |
浏览次数33 |
EVO系列测量平台可配置多种光电测量模块,集成二维平面图形、三维形貌特征以及表面粗糙度等多种测量功能。测量特征尺寸覆盖了亚微米级至厘米级的宽泛范围。广泛应用于PCB印制电路板、HDI电路板、平板显示、光学薄膜和半导体光刻等生产和研发领域。
项目 |
部件 |
基本参数 |
补充说明 |
指定配套 |
VHX显微镜 |
镜头Z20T,带镜头固定圈VHX-J20T。主机 VHX7000, |
该部件由甲方提供,请确认型号。 |
包括部件 |
1.XY运动平台 |
电动。 XY行程200mm*150mm。 XY轴直线度优于15um。 XY轴垂直度优于20um。 台面尺寸250mm*200mm,采用黑色阳极氧化铝合金板材。 |
步进电机+滚珠丝杆驱动,配有光栅尺检测位置。光栅尺分辨率1um,线性度优于10um。 ***小定位步距≤10um。 **移动速度25mm/s 。 平台移动,可由USB手柄操作,速度多级可调。也可由软件界面的按钮操作。 |
2 倾斜观察 |
手动。范围-60度~90度。 |
可在任意角度锁死,稳定性好。 |
|
3 镜头升降 |
电动。升降范围≥40mm |
步进电机+梯形丝杆驱动。可锁紧防抖。 |
|
4 测量软件 |
实现跨视场测量,精度优于20um。 功能包括:单点XY坐标记录;2点距离;1点到直线(2点)的距离;3点确定圆心和半径等。 |
软件安装在VHX主机上。 |
本公司专业生产光学检测设备 光学测量设备 气浮平台 陶瓷吸附平台 高精密运动平台 光刻机 曝光机,欢迎选购!